二氟化氙（XeF2），又稱(chēng)二氟代氙，分子量為169.30，在電子工業(yè)中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體，由于XeF2和硅的化學(xué)反應(yīng)是自發(fā)反應(yīng)，XeF2對(duì)硅的腐蝕工藝具有非常高的選擇性，在XeF2對(duì)硅進(jìn)行腐蝕過(guò)程中，XeF2氣體通過(guò)自由擴(kuò)散到硅襯底表面，并與最外層硅原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氣態(tài)Xe和氣態(tài)SiF4，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)硅的腐蝕。

產(chǎn)品指標(biāo)

產(chǎn)品用途：

在電子工業(yè)中，XeF 2常被用作硅的蝕刻氣體。此外，二氟化氙是一種選擇性很好的氟化試劑，在無(wú)機(jī)氟化物制備及有機(jī)合成中有廣泛的應(yīng)用，但其只有在氣相和非水溶液中才具有氟化性質(zhì)，在水溶液中只能起氧化劑的作用。

包裝、貯存：

二氟化氙是一個(gè)穩(wěn)定的化合物，可長(zhǎng)期儲(chǔ)放于鎳制容器或鋁合金無(wú)縫鋼瓶?jī)?nèi)，包裝規(guī)格有100g、500g、1kg、2kg和5kg規(guī)格，以滿(mǎn)足科研院所及生產(chǎn)型企業(yè)的不同要求。具體包裝規(guī)格可根據(jù)用戶(hù)需求定制更改。二氟化氙儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫(kù)房，應(yīng)與氧化劑、食用化學(xué)品、堿金屬分開(kāi)存放，遠(yuǎn)離火種、熱源。